华为Mate 60 Pro突破芯片封锁，探究真空腔内X射线相机在EUV光刻中的应用价值

8月29日，华为在毫无征兆的情况下未发先售了Mate 60 Pro，线上线下一机难求。业内常说，计算能力看芯片，芯片性能看光刻，光刻技术看EUV。EUV光刻机是现代7nm以下芯片制造的关键设备，它使用极紫外光（EUV）作为照射光源，具备高精度和高分辨率的特点。光源技术是其中的核心技术之一，对光刻机的性能和芯片的制造质量有着至关重要的影响。

图1 图源：华为官网

图2 图源：ASML官网

EUV光源是通过一种极紫外辐射（EUV radiation）的技术实现的，其波长为13.5nm，具有较高的能量和强度。由于极紫外辐射在大气中传播时会被吸收，所以需要在光刻机内部建立一个真空环境，以便极紫外辐射能够到达光刻机的光学系统。传统的光学显微镜无法直接观察到它，而使用真空腔内X射线相机可以突破这一限制，实现对极紫外光的可视化和定量分析。

 

 

图3 图源raptor官网

 

真空腔内X射线相机是一种用于拍摄极紫外光源的设备，它利用X射线的穿透能力，可以在真空环境中捕捉到极紫外光光斑大小、位置、形状、亮度以及测量光束的轮廓、M²因子等参数，这些参数直接影响到芯片制造过程中的精度和效率，对于评估EUV光源的性能至关重要。

 

• 相机放置在真空腔室内使用

• EMCCD芯片，分辨率1024x1024（其他分辨率可选）

• 满分辨率帧频31fps

• 可直接探测能量范围12eV-20keV

• 制冷温度-70℃，暗电流<0.001e - /p/s

• 提供完整真空馈通的解决方案

EUV X射线光谱、软X射线显微镜、VUV/EUV/XUV光刻、X射线衍射成像(XRD)、X射线荧光成像(XRF)、X射线相衬成像