主要特性：

• DN160CF (8”)法兰设计，可直接与真空室连接
• EMCCD芯片，分辨率1024x1024
• 满分辨率帧频31fps
• 可直接探测能量范围12eV-20keV
• 制冷温度-70℃，暗电流<0.001e^-/p/s
• 读出噪声<1e^-

典型应用：

X射线成像及荧光成像(XRF)、X射线衍射成像(XRD)、X射线显微镜、共振非弹性X射线散射(RIXS)、VUV/EUV/XUV光谱、薄膜及纳米纤维、材料组成及结构、X射线等离子体诊断、全息照相及光刻

>>X-ray衍射（XRD）

X-ray衍射是一种研究物质特性的技术，如大分子、晶体、粉末、 聚合物和纤维。 当X-ray穿过物质时，它们与原子中的电子相互作用，并分散开 来。如果原子是在平面上组织的（即物质是结晶的），并且原子之间 的距离与X-ray的波长大小相同，则会发生构造性和破坏性的干涉， 并形成衍射图案。根据所研究物质的种类，可以使用单色X-ray、粉 红束（窄带）X-ray或白束（宽带）X-ray。

>>EUV紫外光刻

半导体工业使用波长从 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已达到光刻技术的界限。认识到这 一限制，该行业在过去几年中一直在寻找一种潜在的后继技术，以生 产小于100nm的特性。半导体工业研究的下一代光刻技术包括超视 距光刻、X-ray光刻、离子束投影光刻和电子束投影光刻。尽管EUV 光刻技术也有其挑战，但它经常被使用，因为它保留了上述光刻技术 （波长13.5nm）的外观和感觉，以及使用了相同的基本设计工具。 因此，直接探测X-ray相机为光刻系统工作中提供了好的诊断 和监控手段。

>>XUV、软X射线及EUV光谱

美国McPherson Instruments公司的251MX平场光谱仪，采用新的120g/mm光栅和EA4710XO-BN相机，可以轻松实现XUV、软X射线及EUV光谱的测量。

Eagle XO相机安装在251MX光谱仪上

资料下载

产品彩页 - Falcon III XO法兰安装型高速X射线相机.pdf

应用案例 - 采用制冷CCD直接探测相机的XUV、软X射线和极紫外(EUV)光谱仪.pdf

应用案例 -深度制冷CCD相机在文物检测领域的应用.pdf

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